双重曝光(光刻技术中的双重曝光)
的有关信息介绍如下:双重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。两次曝光是在同样的光刻胶上进行的,但使用不同的掩模版。
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双重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。两次曝光是在同样的光刻胶上进行的,但使用不同的掩模版。
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